正在半导体出产规模，某半导体出产企业每天排放高达 1800 吨的工业废水，这些废水的处罚成为一个闭头题目。半导体出产进程极为纷乱，涉及浩瀚工艺和技巧，且运用大批有机溶剂，使得废水处罚难度极大。

　　一、重金属污染。正在半导体创造中，百般蚀刻液和冲洗剂常含有铜、锌、镉、铅、锡、镍等重金属。这些重金属若不当帖处罚，进入情况后会对生态体例和人类康健变成紧张迫害。二、有机化合物。出产进程中运用的溶剂（如异丙醇、丙酮等）、光阻剂以及其他有机增加物会排放到废水中，增补了废水的处罚难度。三、酸碱物质。晶圆出产和冲洗进程会用到大批酸性（如硫酸、盐酸、硝酸）和碱性（如氢氧化钠和氢氧化钾）化学品，导致废水酸碱度失衡。四、悬浮固体。硅片切割时爆发硅屑，以及其他固体残留物大概呈现正在废水中，影响废水的水质。五、含氨废水。正在显影、冲洗、湿法刻蚀等进程中会排放大批含氨废水，氨氮含量过高会对水体变成富养瓦解等题目。

　　化学浸淀法和氧化还原法正在半导体工业废水解决中操纵较多。化学浸淀法操作纯洁、价值省钱，苛重用于去除废水中的重金属污染物，蕴涵中和浸淀法、铁氧体浸淀法、硫化物浸淀法等。其道理是通过加入化学药剂与重金属离子发作反映，将重金属离子转化对立溶的浸淀物质，再通过过滤或浸淀的步骤举行星散，从而抵达去除目标。比如，正在中和浸淀法中，通过列入碱性物质，使重金属离子与氢氧根离子联结造成浸淀。

　　蒸发结晶法和膜星散法是达成半导体工业废水回用的紧张步骤。膜星散法拥有星散成果高、无二次污染、操作轻巧、占地面积幼等特色，正在半导体工业废水处罚中拥有很强的技巧上风，也是目前 “中水回用体例” 的苛重废水处罚步骤。

　　该步骤蕴涵反渗出法、超滤法、电渗析等。此中，反渗出是操纵反渗出道理，正在工业废水一侧施加较高压力，使行动溶剂的水分子透过半透膜，达成水与重金属及其他溶质的星散。

　　生物法分为厌氧生物和蔼氧生物处罚，苛重用于去除废水中的有机物，也可策画出脱氮除磷的处罚工艺，去除废水中的氨氮和磷。目前可去除重金属的生物法有生物吸附法、生物絮凝法、植物修复法以及生物化学法。

　　生物法拥有轻巧适用、进程职掌纯洁、污泥量少、二次污染少、效益上等特色。厌氧生物处罚是高浓度有机废水的常用途理步骤，正在无需供应氧的情状下，操纵厌氧微生物的代谢进程，将有机物转化为大批生物气（沼气）和少量细胞物质。其进程分为水解阶段、酸化阶段、产乙酸阶段和产甲烷阶段。

　　处罚半导体工业废水并非易事，必要联结多种废水处罚步骤（分质分流），策画一个废水处罚体例，能力使废水安靖抵达所需法式。